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G1 蒸镀机
规格&简介K-200plus G1 OLED 蒸镀机基板尺寸200x200mm glass or 8”wafer应用领域AMOLED、Micro-OLED、OTFT对位精度≦1.5um by&nbs···
规格&简介
K-200plus G1 OLED 蒸镀机 | |
基板尺寸 | 200x200mm glass or 8”wafer |
应用领域 | AMOLED、Micro-OLED、OTFT |
对位精度 | ≦1.5um by CCD Fine alignment |
速率范围 | 0.01A/s~5A/s |
速率稳定性 | ≦±1% @LiQ & ≦±3%@Ag |
膜厚均匀性 | ≦±2% for organic deposition |
≦±3% for metal deposition | |
膜厚重复性 | ≦±1% for organic ≦±3% for metal |
极限真空度 | ≦3x10-7 torr within 16hrs |
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