产品中心
PRODUCT
G1 蒸镀机
规格&简介K-200plus G1 OLED 蒸镀机基板尺寸200x200mm glass or 8”wafer应用领域AMOLED、Micro-OLED、OTFT对位精度≦1.5um by&nbs···
规格&简介
K-200plus G1 OLED 蒸镀机 | |
基板尺寸 | 200x200mm glass or 8”wafer |
应用领域 | AMOLED、Micro-OLED、OTFT |
对位精度 | ≦1.5um by CCD Fine alignment |
速率范围 | 0.01A/s~5A/s |
速率稳定性 | ≦±1% @LiQ & ≦±3%@Ag |
膜厚均匀性 | ≦±2% for organic deposition |
≦±3% for metal deposition | |
膜厚重复性 | ≦±1% for organic ≦±3% for metal |
极限真空度 | ≦3x10-7 torr within 16hrs |
上一篇： VR 器件开发机
下一篇： G2 蒸镀机（研发中）
相关新闻
-
C60的在钙钛矿中应用
2024-02-23
-
普诺逊真空签约中国第一条钙钛矿中式线！
2024-02-23
-
热烈庆祝：首台钙钛矿太阳能中试机成功出货
2022-06-17
-
热烈庆祝普诺逊真空科技首台OLED真空蒸镀机下线出货—中科院长春应化所
2022-07-24
相关产品
-
VR 器件开发机
基板尺寸8”wafer应用领域VR Micro-OLED 器件研发点源配置有机源13支，金属源3支腔内布局分二区，金属有机分离是否有LL有，磁力杆传送
-
生产型磁控机
规格&简介 &···
-
MT(材料验证机）
基板尺寸100x100玻璃基底（tray盘）应用领域OLED器件研发&材料验证点源配置有机源16支，金属源3支腔内布局OC、MC分二腔，或者合并分四区是否有LL有，配进口Robot
-
超高真空互联
Sputter&PLD超高真空互联极限真空度5x10-9torr四支2“圆形靶枪，2“wafer基底准分子激光器+六靶台
-
ALD薄膜沉积
基底尺寸2”、4”、6”wafer应用领域Al2O3， HfO2， ZrO2、 MoOx、 VOx、 TiO2， SiO2， Al···
-
G2 蒸镀机（研发中）
P-400 G2 IN-LINE 蒸镀机基板尺寸300x400mm glass应用领域PMOLED、薄膜太阳能电池、OTFT对位精度≦2···
