产品中心
PRODUCT
G2 蒸镀机（研发中）
P-400 G2 IN-LINE 蒸镀机基板尺寸300x400mm glass应用领域PMOLED、薄膜太阳能电池、OTFT对位精度≦250um by Pin alignment速率范围0.01A/s~10A/s速率稳定性≦±2%&nb···
P-400 G2 IN-LINE 蒸镀机 | |
基板尺寸 | 300x400mm glass |
应用领域 | PMOLED、薄膜太阳能电池、OTFT |
对位精度 | ≦250um by Pin alignment |
速率范围 | 0.01A/s~10A/s |
速率稳定性 | ≦±2% @LiQ & ≦±3%@Ag |
膜厚均匀性 | ≦±2% for organic deposition |
≦±3% for metal deposition | |
膜厚重复性 | ≦±1% for organic ≦±3% for metal |
极限真空度 | ≦3x10-7 torr within 16hrs |
相关新闻
-
热烈庆祝普诺逊真空科技首台OLED真空蒸镀机下线出货—中科院长春应化所
2022-07-24
-
普诺逊真空签约中国第一条钙钛矿中式线！
2024-02-23
-
热烈庆祝：首台钙钛矿太阳能中试机成功出货
2022-06-17
-
C60的在钙钛矿中应用
2024-02-23
相关产品
-
Bottom-device实验机
基板尺寸32x32玻璃基底（4片每次）应用领域底发射OLED&钙钛矿器件点源配置有机舟8支，金属舟2支腔内布局单体机是否有LL否
-
MPCVD系统
基底尺寸2”or 4”wafer应用领域金刚石外延片生长微波源德国进口微波源气体纯度7N生长温度800℃~1100℃等离子体温度5000℃~6000℃腔体不锈钢双层腔体+水冷
-
G1 蒸镀机
规格&简介K-200plus G1 OLED 蒸镀机基板尺寸200x200mm glass or 8”waf···
-
G2 蒸镀机（研发中）
P-400 G2 IN-LINE 蒸镀机基板尺寸300x400mm glass应用领域PMOLED、薄膜太阳能电池、OTFT对位精度≦2···
-
VR 器件开发机
基板尺寸8”wafer应用领域VR Micro-OLED 器件研发点源配置有机源13支，金属源3支腔内布局分二区，金属有机分离是否有LL有，磁力杆传送
-
ALD薄膜沉积
基底尺寸2”、4”、6”wafer应用领域Al2O3， HfO2， ZrO2、 MoOx、 VOx、 TiO2， SiO2， Al···
