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G1 蒸镀机
规格&简介K-200plus G1 OLED 蒸镀机基板尺寸200x200mm glass or 8”waf···
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G2 蒸镀机(研发中)
P-400 G2 IN-LINE 蒸镀机基板尺寸300x400mm glass应用领域PMOLED、薄膜太阳能电池、OTFT对位精度≦2···
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VR 器件开发机
基板尺寸8”wafer应用领域VR Micro-OLED 器件研发点源配置有机源13支,金属源3支腔内布局分二区,金属有机分离是否有LL有,磁力杆传送
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Bottom-device实验机
基板尺寸32x32玻璃基底(4片每次)应用领域底发射OLED&钙钛矿器件点源配置有机舟8支,金属舟2支腔内布局单体机是否有LL否
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MT(材料验证机)
基板尺寸100x100玻璃基底(tray盘)应用领域OLED器件研发&材料验证点源配置有机源16支,金属源3支腔内布局OC、MC分二腔,或者合并分四区是否有LL有,配进口Robot
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Top-device研发机
基板尺寸50x50玻璃基底(8片每次)应用领域顶发射OLED器件研发点源配置有机源12支,金属源2支腔内布局单体机(金属&有机源分隔)是否有LL否