产品中心
PRODUCT-
G1 蒸镀机
规格&简介K-200plus G1 OLED 蒸镀机基板尺寸200x200mm glass or 8”waf···
-
G2 蒸镀机(研发中)
P-400 G2 IN-LINE 蒸镀机基板尺寸300x400mm glass应用领域PMOLED、薄膜太阳能电池、OTFT对位精度≦2···
-
生产型磁控机
规格&简介 &···
-
MPCVD系统
基底尺寸2”or 4”wafer应用领域金刚石外延片生长微波源德国进口微波源气体纯度7N生长温度800℃~1100℃等离子体温度5000℃~6000℃腔体不锈钢双层腔体+水冷
-
ALD薄膜沉积
基底尺寸2”、4”、6”wafer应用领域Al2O3, HfO2, ZrO2、 MoOx、 VOx、 TiO2, SiO2, Al···
-
超高真空互联
Sputter&PLD超高真空互联极限真空度5x10-9torr四支2“圆形靶枪,2“wafer基底准分子激光器+六靶台