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     ALD薄膜沉积

    基底尺寸2”、4”、6”wafer应用领域Al2O3， HfO2， ZrO2、 MoOx、 VOx、 TiO2， SiO2， Al···

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高端蒸镀机磁控溅射机MPCVD原子层沉积（ALD）非标超高真空系统

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