产品中心
PRODUCT您的当前位置： 首页>>产品中心>>原子层沉积（ALD）
ALD薄膜沉积
基底尺寸2”、4”、6”wafer应用领域Al2O3， HfO2， ZrO2、 MoOx、 VOx、 TiO2， SiO2， AlN，SixNy 等配置简述配置 3 路液态源，一路固态源，和一路臭氧源···
基底尺寸 | 2”、4”、6”wafer |
应用领域 | Al2O3， HfO2， ZrO2、 MoOx、 VOx、 TiO2， SiO2， AlN，SixNy 等 |
配置简述 | 配置 3 路液态源，一路固态源，和一路臭氧源 |
成膜均匀性 | ＜±1% @Al2O3 |
温度均匀性 | ΔT＜2℃ |
基底传送 | 日本JEL全自动机械手 |
腔体布局 | 四面体TM+LL+工艺室 |
相关新闻
-
热烈庆祝普诺逊真空科技首台OLED真空蒸镀机下线出货—中科院长春应化所
2022-07-24
-
C60的在钙钛矿中应用
2024-02-23
-
热烈庆祝：首台钙钛矿太阳能中试机成功出货
2022-06-17
-
普诺逊真空签约中国第一条钙钛矿中式线！
2024-02-23
相关产品
-
MPCVD系统
基底尺寸2”or 4”wafer应用领域金刚石外延片生长微波源德国进口微波源气体纯度7N生长温度800℃~1100℃等离子体温度5000℃~6000℃腔体不锈钢双层腔体+水冷
-
G2 蒸镀机（研发中）
P-400 G2 IN-LINE 蒸镀机基板尺寸300x400mm glass应用领域PMOLED、薄膜太阳能电池、OTFT对位精度≦2···
-
Top-device研发机
基板尺寸50x50玻璃基底（8片每次）应用领域顶发射OLED器件研发点源配置有机源12支，金属源2支腔内布局单体机（金属&有机源分隔）是否有LL否
-
生产型磁控机
规格&简介 &···
-
MT(材料验证机）
基板尺寸100x100玻璃基底（tray盘）应用领域OLED器件研发&材料验证点源配置有机源16支，金属源3支腔内布局OC、MC分二腔，或者合并分四区是否有LL有，配进口Robot
-
超高真空互联
Sputter&PLD超高真空互联极限真空度5x10-9torr四支2“圆形靶枪，2“wafer基底准分子激光器+六靶台
